污水廠uv光氧除臭設備光催化氧化技術

 

光催化是在必定波長光照條件下,半導體材料發生光生載流子的別離,然后光生電子和空穴在與離子或分子結合生成具有氧化性或還原性的活性自由基,這種活性自由基能將有機物***分子降解為二氧化碳或其他小分子有機物以及水,在反應過程中這種半導體材料也是光催化劑自身不發生改變，廢氣和惡臭氣體進入集成設備后，通過UV紫外光束區時，被紫外光波高能有用率地照耀，瞬間發生光解反應，翻開廢氣和臭味污染物分子的化學鍵，損壞其分子結構和核酸；使用高能紫外光波分化空氣中的氧分子發生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，然后發生臭氧，使呈游離狀況的污染物分子與臭氧氧化結組成小分子無害或低害的化合物。如CO2、H2O 等。 UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。

UV紫外光解與等離子分化如此有用協同地發生一系列光解和分化反應，通過復合式多級凈化后然后合格排放！既能安全有用地凈化管理各種有害廢氣，又能有用潔凈地去除各種惡臭滋味。